Grayscale Photomasks
Kifonix 開發並提供應用於微影製程的灰階光罩，透過單次曝光即可製作出 3D 光阻輪廓。我們運用先進的光罩寫入技術、對晶圓廠光阻行為與蝕刻表現的專業知識，特別是自行研發的灰階演算法運算技術，來達成上述目標。以下是幾項成功的關鍵因素：
成功的關鍵因素
- 4 倍或 5 倍曝光機台
- 低對比度光阻
- 元件最小單位尺寸（例如 1 個透鏡）大於 5 µm
Kifonix 開發並提供應用於微影製程的灰階光罩，透過單次曝光即可製作出 3D 光阻輪廓。我們運用先進的光罩寫入技術、對晶圓廠光阻行為與蝕刻表現的專業知識，特別是自行研發的灰階演算法運算技術，來達成上述目標。以下是幾項成功的關鍵因素：